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脫硝氨逃逸分析儀取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù);紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對連續(xù)光譜做算法分析,可同時測量多種氣體,有效
脫硝氨逃逸分析儀
孕育產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3的,比方燃煤發(fā)電廠。也可以先議決尿素分析釋放得到NH3再注入的,后燃NOX控制技能可以是選擇性催化還原法(SCR)也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),無論何種,基源頭根本理都是一樣的。即都是議決往應(yīng)聲器內(nèi)注入氨與氮氧化物產(chǎn)生應(yīng)聲,在大范圍燃燒礦物燃料的范疇,都安置了前燃(pre-combustion)或后燃(postcombustion)NOX控制技能的脫硝裝置,但是無論應(yīng)用哪種要領(lǐng),
氨注入的過少,不光不能淘汰NOX排放,逃逸的NH3會與工藝流程中孕育產(chǎn)生的硫酸鹽產(chǎn)生應(yīng)聲生成硫酸銨鹽。在應(yīng)聲區(qū)注入的氨散布環(huán)境與NO和NO2的散布不立室時也會出現(xiàn)氨逃逸征象,
,控制好氨的注入總量和氨在應(yīng)聲區(qū)的空間散布便可以大化的低沉NOX排放,反而因為過量的氨導致NH3逃逸出應(yīng)聲區(qū)。就會低沉還原轉(zhuǎn)化效率,且緊張都是重硫酸銨鹽,銨鹽會在鍋爐尾部煙道卑鄙固體部件外貌上沉淀,比方沉淀在氛圍預(yù)熱器扇面上,會造成緊張的配置腐化,并因此帶來昂貴的維護費用,氨注入的過量,高氨量逃逸的環(huán)境陪伴著NOX轉(zhuǎn)化效率低沉是一種非常糟糕的征象和很緊張的問題。
2.2氨逃逸的危害
(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費,環(huán)境污染;
(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;
(3)逃逸的氨氣,會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕;
(4)過量的逃逸氨會被飛灰吸收,導致加氣塊(灰磚)無法銷售;
脫硝氨逃逸分析儀生產(chǎn)廠家在線監(jiān)測
三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)
指標 | 測量范圍 | 0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定 |
響應(yīng)時間 | <20s | |
線性誤差 | <1%F.S | |
零點漂移 | 可忽略 | |
重復性 | 1%F.S | |
標定 | 出廠時已標定,無需定期標定 | |
輸入和輸出信號 | 模擬量輸出 | 4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離 |
報警輸出 | 濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報警 | |
繼電器輸出 | 2路(可擴展),觸點負載24V,2A | |
通訊接口 | RS485,雙端隔離 | |
工作條件 | 環(huán)境溫度 | (-20)~50℃ |
保護等級 | IP54 | |
工作電壓 | 200V-240VAC,50Hz | |
電源功耗 | ≤3000W | |
預(yù)熱時間 | 1小時 | |
伴熱溫度 | 180℃~240℃ | |
采樣流量 | 2~20L/min(可根據(jù)用戶需求定制) | |
尺寸 | 機柜 | 1000×1200×600mm(默認尺寸) |
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